当前位置:主页 > 系统教程 > Win8教程 >
tekscan压力分布分析系统在CMP中的应用-南宫28圈官网
  • 时间:2024-01-02
  • 浏览:

本文摘要:Tekscan享有世界最先进设备的接触压力量测系统。该系统精确、用于简单且成本高效。通过优质的服务具体客户的市场需求,并获取最优质的解决方案。 I-Scan系统是Tekscan旗下一款近于强劲的压力量测系统,获取晶圆CMP研磨时,晶圆压力产于的分析、表明、与及调整的工具。

南宫28圈官网

Tekscan享有世界最先进设备的接触压力量测系统。该系统精确、用于简单且成本高效。通过优质的服务具体客户的市场需求,并获取最优质的解决方案。

  I-Scan系统是Tekscan旗下一款近于强劲的压力量测系统,获取晶圆CMP研磨时,晶圆压力产于的分析、表明、与及调整的工具。图是I-Scan在晶圆CMP研磨时的一个案例,将I-Scan超薄,无侵入性的传感器摆放在打磨头和晶圆中间,晶圆的受力大小和均匀分布状况将在电脑荧幕上即时的表明,使用者可以即时的根据所获得的数据/影像对打磨头作调整,以后晶圆的受力均匀分布为止。大大的提升了晶圆制作的良率和节省研磨设备的调整时间。

  I-Scan主要用途静态或动态的分析,数据可以2维(图2)或3维(图3)的影像表明。从图上可以显现出外围的受力较为小,图4是横截面分析。

  I-Scan可以用于在单打磨头或的设备上,传感器可以根据客户的市场需求自定义以因应多打磨头设备对晶圆不作全范围的检测。


本文关键词:南宫28圈官网,tekscan,压力,分布,分析,系统,在,CMP,中的,应用

本文来源:南宫28圈官网-www.kubernetek.com

相关推荐